气相沉积炉的特点是什么
气相沉积炉的特点是什么
气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的,但目前,不只应用于耐热物质的涂层,而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等,是一个颇具特征的技术领域。
设备特点在于:(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层,而且可以在粉体表面涂层,特别是在低温下可以合成高熔点物质,在节能方面做出了贡献,作为一种新技术是大有前途的。
下面小编详细列举几条炉子的特点,以便大家能更好的了解炉子的性能。
气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m,能满足超大型工件化学气相沉积处理需求;并且,采用多温区独立控温,温度均匀性好;
与此同时采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强;
气相沉积炉采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;
气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。
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